期待再聚 | PIC Studio在Tower Semiconductor上海2024全球技術(shù)研討會(huì)之旅圓滿收官

逍遙設(shè)計(jì)自動(dòng)化

01行業(yè)盛會(huì)
6 [% ?3 m& o; q6 ^$ E上海，2024年9月25日 —— 在萬(wàn)眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術(shù)研討會(huì)（TGS）盛會(huì)上，PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能，成功吸引了全球業(yè)界精英的廣泛關(guān)注。此次大會(huì)以“賦能未來(lái)：模擬技術(shù)創(chuàng)新塑造世界”為主題，不僅深度探討了人工智能、大模型發(fā)展對(duì)半導(dǎo)體先進(jìn)技術(shù)的導(dǎo)向趨勢(shì)，還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領(lǐng)域的非凡成就。


圖1：展區(qū)
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在大會(huì)的展區(qū)，最新版本的PIC Studio受到了廣泛關(guān)注。這款作為硅基光電子集成電路（PIC）設(shè)計(jì)領(lǐng)域的重要工具，憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點(diǎn)，受到了全球精英的期待與關(guān)注。

02展會(huì)交流
PIC Studio最新版本在保留原有強(qiáng)大功能的基礎(chǔ)上，進(jìn)一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK，為硅基光電子設(shè)計(jì)師們提供了前所未有的便捷與支持。
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9 j3 n) U2 H/ L  N9 M圖2：Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現(xiàn)場(chǎng)交流

圖3：Dr.Marco Racanelli(President)現(xiàn)場(chǎng)交流
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% o5 A( p7 v4 v( t% D0 I圖4：現(xiàn)場(chǎng)觀眾交流
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4 S3 p* p9 j7 N0 _0 g: E具體來(lái)說(shuō)，新版本PIC Studio全面集成了多個(gè)核心組件，每一個(gè)都經(jīng)過(guò)精心設(shè)計(jì)與優(yōu)化，以滿足不同設(shè)計(jì)需求。
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圖5：PIC Studio全鏈路流程圖
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PhotoCAD作為高效的版圖設(shè)計(jì)工具，不僅支持組件布局、光程匹配與自動(dòng)繞線等高級(jí)功能，還內(nèi)置了設(shè)計(jì)規(guī)則檢查（DRC）模塊，確保設(shè)計(jì)成果從一開始就符合嚴(yán)格的工藝要求。

) z% G9 ^) P, c% K! K而pSim與pSim Plus則分別承擔(dān)了原理圖與鏈路仿真、系統(tǒng)級(jí)仿真的重任，前者側(cè)重于快速驗(yàn)證設(shè)計(jì)原理，后者則支持復(fù)雜的光電融合仿真，包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級(jí)功能，助力設(shè)計(jì)師從多維度、多層面理解并優(yōu)化設(shè)計(jì)方案。

尤為值得一提的是，PIC Studio還引入了Advanced SDL技術(shù)，實(shí)現(xiàn)了原理圖驅(qū)動(dòng)版圖生成（SDL）與版圖生成原理圖（LDS）的雙向轉(zhuǎn)換。這一創(chuàng)新功能不僅大幅提高了設(shè)計(jì)效率，還確保了版圖與原理圖之間的一致性，為后續(xù)的設(shè)計(jì)驗(yàn)證與生產(chǎn)制造奠定了堅(jiān)實(shí)基礎(chǔ)。
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此外，pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設(shè)計(jì)規(guī)則檢查工具的加入，更是為設(shè)計(jì)的準(zhǔn)確性與合規(guī)性提供了雙重保障。
03尾聲
借用TGS大會(huì)演講者M(jìn)r.Russell Ellwanger（CEO）的一句話："Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無(wú)論您對(duì)我們的技術(shù)解決方案是批評(píng)還是贊揚(yáng)的聲音，我們誠(chéng)摯歡迎您與我們的人員進(jìn)行交流，深入了解我司在硅基光電子工藝設(shè)計(jì)與仿真技術(shù)布局及產(chǎn)品應(yīng)用方面的創(chuàng)新成果，我們期待與您再次相聚！


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