電子產(chǎn)業(yè)一站式賦能平臺(tái)

PCB聯(lián)盟網(wǎng)

搜索
查看: 25|回復(fù): 0
收起左側(cè)

Hot Chips 2024 | 數(shù)據(jù)中心固態(tài)冷卻技術(shù)應(yīng)對(duì)爆炸性增長(zhǎng)的熱管理創(chuàng)新

[復(fù)制鏈接]

493

主題

493

帖子

3686

積分

四級(jí)會(huì)員

Rank: 4

積分
3686
跳轉(zhuǎn)到指定樓層
樓主
發(fā)表于 昨天 08:00 | 只看該作者 |只看大圖 回帖獎(jiǎng)勵(lì) |倒序?yàn)g覽 |閱讀模式
引言
8 s, o; j$ M* L+ ?# X高性能計(jì)算,尤其是人工智能和機(jī)器學(xué)習(xí)領(lǐng)域的飛速發(fā)展,導(dǎo)致數(shù)據(jù)中心的功率密度和熱量產(chǎn)生顯著增加。本文探討現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理難題,并介紹創(chuàng)新解決方案:固態(tài)冷卻技術(shù)[1]。
4 W: D- N7 f8 }: K3 q- [
# n0 ^* e: [- f2 a熱管理難題
; h2 [: E- |9 A: T* h8 _數(shù)據(jù)中心正經(jīng)歷指數(shù)級(jí)增長(zhǎng),預(yù)計(jì)全球市場(chǎng)規(guī)模將從2024年的3018億美元增長(zhǎng)到2030年的6224億美元,年復(fù)合增長(zhǎng)率為10%。這種增長(zhǎng)由帶寬、計(jì)算密度和數(shù)據(jù)管理能力的不斷提高所驅(qū)動(dòng)。然而,這些進(jìn)步也帶來了新的挑戰(zhàn),特別是在熱管理方面。  d# o. E) j: T/ Q1 ^
9 P$ ~- z: o0 \9 ^
圖1展示2024年到2030年數(shù)據(jù)中心市場(chǎng)規(guī)模的預(yù)計(jì)增長(zhǎng),突顯了該行業(yè)的爆炸性增長(zhǎng)。3 B4 ?& `6 t8 r& h. I; K, P) d

4 D" M% r% Z% V1 L5 C. ]" V5 _3 k+ R隨著計(jì)算能力的提升,處理器產(chǎn)生的熱量也隨之增加。當(dāng)前一代機(jī)架通常消耗約40千瓦,而下一代系統(tǒng)預(yù)計(jì)每個(gè)機(jī)架將需要高達(dá)120千瓦。這種三倍的功耗增加帶來了重大的冷卻挑戰(zhàn),因?yàn)榧词故悄壳白詈玫慕鉀Q方案,考慮到冷卻限制,也只能管理約66千瓦每機(jī)架。
7 A; I7 O2 t! g7 E: ?" i& _0 ?/ q2 p3 y- a- y4 m7 @
有效的熱管理對(duì)數(shù)據(jù)中心至關(guān)重要。熱管理約占數(shù)據(jù)中心功耗的40%,是這些設(shè)施總擁有成本(TCO)的關(guān)鍵因素。
" d4 L; }, }3 z( {) c
) n4 j2 _- [  F) s5 }2 v) k& k圖2說明了數(shù)據(jù)中心功耗的細(xì)分,強(qiáng)調(diào)了熱管理所占的顯著部分。
% ~8 c/ J, U- E7 H1 ]6 l! ~- m! b
  D, i; d& j3 s! H9 C傳統(tǒng)冷卻解決方案的局限性, P+ n# i: t1 Y7 o" o
傳統(tǒng)冷卻方法難以跟上現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心不斷增加的熱流密度。被動(dòng)冷卻技術(shù),如散熱器和熱管,本質(zhì)上受到環(huán)境溫度的限制,對(duì)高性能計(jì)算需求往往不足。主動(dòng)冷卻解決方案,如蒸汽壓縮系統(tǒng),雖然有效但通常缺乏設(shè)備級(jí)所需的精確度,并可能消耗過多電力。
) x( l( ?$ w' c# c7 x- y' ~. X4 _, P& B1 F* L

- P% P6 \% B# a. ?# n圖3描述了傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括被動(dòng)和主動(dòng)方法,強(qiáng)調(diào)了這些方法在解決現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心冷卻需求方面的局限性。
6 J  l, W; o! n6 p; E6 G9 X* ?
隨著熱設(shè)計(jì)功耗(TDP)值的增加,業(yè)界逐漸轉(zhuǎn)向液體冷卻。然而,這種轉(zhuǎn)變也帶來了自身的一系列挑戰(zhàn),包括基礎(chǔ)設(shè)施改造和潛在的可靠性問題。
  t0 }$ l+ I! N' a5 ^) r* w7 u" Z! Q' ]! }- U6 h

; V' G: T5 [, @7 x圖4展示了XPU功率與冷卻方法之間的關(guān)系,指出了高TDP值向液體冷卻轉(zhuǎn)變的趨勢(shì)。5 R- V9 X6 Z/ F# ]
, e7 S, i+ F: I. ?2 I& t
固態(tài)冷卻技術(shù)簡(jiǎn)介! k+ C6 U. ^# i4 y3 x7 Q
固態(tài)冷卻技術(shù)作為一種有前景的解決方案,可以應(yīng)對(duì)數(shù)據(jù)中心面臨的熱管理挑戰(zhàn)。這種創(chuàng)新技術(shù)彌合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻方法之間的差距,為熱管理提供了動(dòng)態(tài)方法。
; o" ]" F/ K% j1 a  |) `. C5 E2 C  {) o4 q, D/ \  n$ R
固態(tài)冷卻的主要優(yōu)勢(shì)包括:
  • 動(dòng)態(tài)響應(yīng):系統(tǒng)可以根據(jù)實(shí)時(shí)熱需求,在被動(dòng)和主動(dòng)冷卻模式之間無縫切換。
  • 性能提升:通過防止熱降頻,固態(tài)冷卻允許處理器長(zhǎng)時(shí)間保持峰值性能。
  • 能源效率:能夠在可能的情況下以被動(dòng)模式運(yùn)行,僅在必要時(shí)啟動(dòng)主動(dòng)冷卻,從而實(shí)現(xiàn)整體節(jié)能。
  • 靈活性:固態(tài)冷卻解決方案可以集成到現(xiàn)有的數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施中,減少資本支出和部署時(shí)間。1 L, S$ G' a: C5 I/ h
    [/ol]
    ! ~$ D( N+ S+ a; x1 T, Z1 F( h / P' `5 }, n3 f, r) Z
    圖5展示了固態(tài)動(dòng)態(tài)冷卻的概念,說明了如何在被動(dòng)和主動(dòng)模式下運(yùn)行以滿足不同的散熱需求。3 D1 @% k6 e2 V! p  R' W* \" I

    ! N. z5 l# o2 m( K實(shí)際應(yīng)用:Hex 2.0 CPU冷卻器: {+ p' @! X) G- E0 W' t! h
    為了說明固態(tài)冷卻的實(shí)際應(yīng)用,讓我們來看看Phononic公司開發(fā)的Hex 2.0 CPU冷卻器。這種創(chuàng)新的冷卻器在緊湊的92毫米外形中結(jié)合了被動(dòng)和主動(dòng)冷卻技術(shù)。9 [% y) y3 p. H9 g0 M/ @

    7 C6 Y/ e' y, W$ a% c# Z1 O 1 `$ B. @7 T9 B8 t6 Z
    圖6展示了Hex 2.0 CPU冷卻器,展示了其緊湊設(shè)計(jì)以及被動(dòng)和主動(dòng)冷卻元件的集成。
    , h/ a  N; C8 K+ s1 }
    ' ~6 O5 k9 R- kHex 2.0有兩種運(yùn)行模式:
  • 被動(dòng)模式:在正常條件下,冷卻器作為傳統(tǒng)散熱器運(yùn)行,通過主散熱器有效散熱。
  • 導(dǎo)熱模式:當(dāng)CPU處于壓力下并產(chǎn)生更多熱量時(shí),熱電元件激活,通過輔助散熱器提供額外的冷卻能力。
    " i+ q1 Y- B5 y( D7 _& u[/ol]
    ; K' `- W$ V# ]: _8 n6 b這種動(dòng)態(tài)方法使Hex 2.0的性能超過了許多傳統(tǒng)冷卻解決方案,包括一些外形更大的液體冷卻系統(tǒng)。
    6 w3 {0 A3 L1 f  [$ e9 S, @/ `' k" m8 S& v2 I& w3 g9 ^

    , s9 }* Z2 b, ?0 z* r5 N圖7展示了Hex 2.0與其他冷卻解決方案的性能對(duì)比,展示了其優(yōu)越的冷卻效率。
    % [) M. @. b: v0 D& ?1 w3 J$ N9 P9 r! v- Y) ^3 r2 R; @
    數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的廣泛應(yīng)用
    * i5 P% P! f' B5 d& l! V2 ~) b固態(tài)冷卻的原理可以應(yīng)用于單個(gè)CPU冷卻器之外的領(lǐng)域。這項(xiàng)技術(shù)有潛力徹底改變數(shù)據(jù)中心各種組件的冷卻方式,包括:+ }& O+ }2 p1 i. }
  • 機(jī)架頂部交換機(jī)
  • 計(jì)算核心
  • 后門冷卻系統(tǒng)
    * Y& a1 ^7 w( m2 g0 A

    ) m: r: o5 Y( V, Y+ U5 s通過在整個(gè)數(shù)據(jù)中心實(shí)施固態(tài)冷卻解決方案,運(yùn)營(yíng)商可以:2 y6 c- z! K$ p& R# D
  • 穩(wěn)定光學(xué)網(wǎng)絡(luò)的頻率
  • 消除CPU/GPU的降頻
  • 提高現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的潛力
  • 延長(zhǎng)組件的使用壽命
  • 平滑熱點(diǎn)
  • 提高機(jī)架和數(shù)據(jù)中心層面的功率密度
      Z; z/ {2 M* D" n; y! P# W
    3 N) n) P( c, D: z( X

    3 j7 y: @3 O0 Q( \
    3 v' U- ^3 f5 A; `! N圖8展示了如何在數(shù)據(jù)中心基礎(chǔ)設(shè)施的各個(gè)元素中部署固態(tài)冷卻解決方案。
    8 r7 b3 A( l$ k% p4 H
    ; L: Q% L1 e# \% [結(jié)論
    . C) p- a1 s) J- A1 L隨著數(shù)據(jù)中心不斷發(fā)展以滿足高性能計(jì)算和人工智能應(yīng)用的需求,熱管理仍然是一個(gè)關(guān)鍵挑戰(zhàn)。固態(tài)冷卻提供了一種有前景的解決方案,具備應(yīng)對(duì)現(xiàn)代數(shù)據(jù)中心復(fù)雜熱景觀所需的靈活性和效率。
    # g% i4 h! X- r  A% n
    ( d. M7 A& F. w# F: s( h# K通過在動(dòng)態(tài)、響應(yīng)式系統(tǒng)中結(jié)合被動(dòng)和主動(dòng)冷卻的優(yōu)勢(shì),固態(tài)冷卻技術(shù)使數(shù)據(jù)中心能夠:
    ( l5 E; d$ o# w. q4 i: E
  • 最大化計(jì)算性能
  • 提高能源效率
  • 延長(zhǎng)現(xiàn)有基礎(chǔ)設(shè)施的壽命
  • 為未來功率密度的增加做好準(zhǔn)備
    " g1 V6 M2 q2 ?+ K
    + B4 g( \! }2 g2 @6 U
    隨著行業(yè)的發(fā)展,采用固態(tài)冷卻等創(chuàng)新冷卻解決方案將對(duì)釋放下一代計(jì)算技術(shù)的全部潛力起重要作用,同時(shí)保持可持續(xù)和高效的數(shù)據(jù)中心運(yùn)營(yíng)。
    * B4 M: |. x1 N* u: o4 K. k
    6 H% d5 B$ x$ m8 X& U  b參考文獻(xiàn)5 p& C1 X% u: O! F
    [1] J. Edwards, "Datacenters: Explosive Growth Meets Thermal Consequences Power & Potential of Solid State Cooling," Phononic, Aug. 25, 2024.6 p; X8 r1 _$ Z4 u- X% ^, h, b
    END- w9 O' n/ |$ Z: g0 R
    % a/ m7 N, j( F4 M, x" L. b9 F

    / p2 X2 j' G% n+ _軟件申請(qǐng)我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請(qǐng)?bào)w驗(yàn)免費(fèi)版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應(yīng)用,PIC Studio都可提升您的工作效能。: Y1 N5 k3 Q0 U& F( \+ A, \) ]# N
    點(diǎn)擊左下角"閱讀原文"馬上申請(qǐng)% v( D9 Z1 ^# i" y* ?; {  C0 s6 ]# z' T
      |* M: M$ J% y% t: ^
    歡迎轉(zhuǎn)載- Z' M3 C7 o' u, }# Q- t" A" c
    5 w4 J) X; z- s2 Y
    轉(zhuǎn)載請(qǐng)注明出處,請(qǐng)勿修改內(nèi)容和刪除作者信息!
    9 H* `2 L, ?9 I+ J3 l" B' O0 o1 e2 I& J1 w4 k: E( p
    & Y+ i7 P! W' s, V& E
    3 R4 N9 B" ^  F% ], u) c
    ; \3 L6 S: x0 O/ W' t$ D, k) b; l

    , y2 W7 l% C0 A3 Z+ q2 t( h8 M關(guān)注我們2 t* D3 n. R# R- F9 j5 @
    % I5 j: w# @) U/ }1 T# b" Z6 }
    * K# P5 i4 Q2 ]

    & m2 l2 S& W# Q$ D

    : ^" Z7 i0 ^+ e0 K8 U4 [4 o - q3 m4 Z  G# u, X+ R

      J) }0 s3 a2 F8 k: h- X
    / `1 {( W6 U; {3 t' z( i
                         
    * G7 K+ D: T; c6 E' B
    ) w! k( P" e  R3 R

    " R8 w$ n. x6 G; z
    - j1 A6 [0 D- J, G# f關(guān)于我們:
    $ Z. A- L- A! D9 w3 z9 ~深圳逍遙科技有限公司(Latitude Design Automation Inc.)是一家專注于半導(dǎo)體芯片設(shè)計(jì)自動(dòng)化(EDA)的高科技軟件公司。我們自主開發(fā)特色工藝芯片設(shè)計(jì)和仿真軟件,提供成熟的設(shè)計(jì)解決方案如PIC Studio、MEMS Studio和Meta Studio,分別針對(duì)光電芯片、微機(jī)電系統(tǒng)、超透鏡的設(shè)計(jì)與仿真。我們提供特色工藝的半導(dǎo)體芯片集成電路版圖、IP和PDK工程服務(wù),廣泛服務(wù)于光通訊、光計(jì)算、光量子通信和微納光子器件領(lǐng)域的頭部客戶。逍遙科技與國(guó)內(nèi)外晶圓代工廠及硅光/MEMS中試線合作,推動(dòng)特色工藝半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展,致力于為客戶提供前沿技術(shù)與服務(wù)。
    3 x6 e  ~, v8 X  B4 p6 X: \, M) N8 Z. K. s7 m+ o) s
    http://www.latitudeda.com/
    8 ~  R3 X7 p- I/ Z# B(點(diǎn)擊上方名片關(guān)注我們,發(fā)現(xiàn)更多精彩內(nèi)容)
  • 發(fā)表回復(fù)

    本版積分規(guī)則

    關(guān)閉

    站長(zhǎng)推薦上一條 /1 下一條


    聯(lián)系客服 關(guān)注微信 下載APP 返回頂部 返回列表