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! O$ ]8 h9 ?5 p2 A4 f01行業(yè)盛會
$ v' A, E8 m+ y' |上海,2024年9月25日 —— 在萬眾矚目的Tower Semiconductor 2024年全球技術研討會(TGS)盛會上,PIC Studio的最新版本憑借其全面的功能,成功吸引了全球業(yè)界精英的廣泛關注。此次大會以“賦能未來:模擬技術創(chuàng)新塑造世界”為主題,不僅深度探討了人工智能、大模型發(fā)展對半導體先進技術的導向趨勢,還集中展示了Tower Semiconductor在模擬及硅基光電子領域的非凡成就。5 C3 j8 x" j' @) J, q+ q
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圖1:展區(qū)2 n+ i+ \4 g6 u3 R# g6 w% J
: w$ ]* @' `7 a% ^在大會的展區(qū),最新版本的PIC Studio受到了廣泛關注。這款作為硅基光電子集成電路(PIC)設計領域的重要工具,憑借其全流程、高度集成及開放第三方接口的特點,受到了全球精英的期待與關注。
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02展會交流
3 m# r* w6 V1 BPIC Studio最新版本在保留原有強大功能的基礎上,進一步支持基于Tower的PH18硅基光電子工藝PDK,為硅基光電子設計師們提供了前所未有的便捷與支持。6 w9 ~: L z/ J. ~2 X4 o9 j/ w- P; O
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圖2:Mr.Naoki Okada(Co-Director of PDK, WW Customer Design Enablement Services)現(xiàn)場交流
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* {+ g* K- q5 W4 {" }圖3:Dr.Marco Racanelli(President)現(xiàn)場交流
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4 H$ ? g o% F" ^; f' j圖4:現(xiàn)場觀眾交流. O/ S! t# n. ]+ g9 Z: j) E; f
# U5 p+ q# ~' x( D# n具體來說,新版本PIC Studio全面集成了多個核心組件,每一個都經(jīng)過精心設計與優(yōu)化,以滿足不同設計需求。6 Q3 u. w! z/ V
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圖5:PIC Studio全鏈路流程圖
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PhotoCAD作為高效的版圖設計工具,不僅支持組件布局、光程匹配與自動繞線等高級功能,還內(nèi)置了設計規(guī)則檢查(DRC)模塊,確保設計成果從一開始就符合嚴格的工藝要求。
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而pSim與pSim Plus則分別承擔了原理圖與鏈路仿真、系統(tǒng)級仿真的重任,前者側重于快速驗證設計原理,后者則支持復雜的光電融合仿真,包括非線性光纖、DSP處理、TDECQ分析等高級功能,助力設計師從多維度、多層面理解并優(yōu)化設計方案。
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' J- A+ f5 u# F* D5 ]+ S& {0 j尤為值得一提的是,PIC Studio還引入了Advanced SDL技術,實現(xiàn)了原理圖驅動版圖生成(SDL)與版圖生成原理圖(LDS)的雙向轉換。這一創(chuàng)新功能不僅大幅提高了設計效率,還確保了版圖與原理圖之間的一致性,為后續(xù)的設計驗證與生產(chǎn)制造奠定了堅實基礎。
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# X7 |8 m& G x; I" g此外,pMaxwell電磁仿真工具與pVerify設計規(guī)則檢查工具的加入,更是為設計的準確性與合規(guī)性提供了雙重保障。) M# u1 V) I4 o2 g" T
03尾聲& l% b9 k! m* l
借用TGS大會演講者Mr.Russell Ellwanger(CEO)的一句話:"Good news is no news, no news is bad news, bad news is good news."無論您對我們的技術解決方案是批評還是贊揚的聲音,我們誠摯歡迎您與我們的人員進行交流,深入了解我司在硅基光電子工藝設計與仿真技術布局及產(chǎn)品應用方面的創(chuàng)新成果,我們期待與您再次相聚!
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軟件申請我們歡迎化合物/硅基光電子芯片的研究人員和工程師申請體驗免費版PIC Studio軟件。無論是研究還是商業(yè)應用,PIC Studio都可提升您的工作效能。
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